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先创业后离职,口述配方指导生产,新宙邦前高管侵犯商业秘密:赔偿2000万后被判刑

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11月6日晚间,国内电解液龙头新宙邦(300037.SZ)披露公告称,公司于2026年11月5日收到深圳市坪山区人民法院送达的一审《刑事判决书》。法院一审认定,公司前员工、曾任半导体事业部总经理的康威构成侵犯商业秘密罪,判处有期徒刑一年二个月,缓刑二年,并处罚金人民币16万元。 判决前,康威已与公司就赔偿达成一致,并向新宙邦支付赔偿款2000万元。 根据判决书披露,康威曾任职于新宙邦,担任半导体事业部总经理,主要负责事业部产品的技术开发与销售。在任期间,他主导研发了向某客户定制供应的水性剥离液、钼蚀刻液两款产品的技术配方,相关配方信息载于公司制作并以代码管理的《半导体产品生产工艺文件》中。 然而,康威违反公司保密制度,将上述文件从工作邮箱下载并储存于私人电脑。 康威随后的动作是先创业后离职。2019年底,康威伙同他人成立某新材料有限公司。2020年3月16日,康威从新宙邦离职,并签署《离职...

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